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东莞市鼎伟新材料有限公司专业生产：镍钒合金靶、高纯铬靶、钛铝靶、铬铝靶、镍铬合金靶、钨钛合金靶材等；公司先后研发的蒸发材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名电子、太阳能企业当中，以较高的性价比，成功发替代了国外进口产品，颇受用户好评。

高纯铬靶的发展前景

时间：2021-04-16浏览数：418

高纯铬靶的目标晶粒尺寸和分布：通常，目标材料具有多晶结构，并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的数量级上。 对于相同组成的靶材，细颗粒靶材的溅射速率比粗颗粒高纯铬靶的溅射速率快，而晶粒尺寸较小的靶材具有更均匀的沉积膜厚度分布。 通过真空熔融法制造的靶材可以确保块内没有孔，但是通过粉末冶金法制造的高纯铬靶很可能包含一定数量的孔。 孔的存在会在溅射过程中引起异常放电，从而产生杂质颗粒。 此外，由于其密度低，在操作，运输，安装和操作过程中，带有孔的目标很容易破碎。

目标处理流程：集成电路制造用溅射靶的加工工艺主要包括熔炼，均质化，压力加工，机械加工等工艺。 在严格控制靶材纯度的基础上，铬靶、铌靶、钛铝靶通过优化压力处理工艺，热处理条件和机械加工条件，调整靶材的晶粒取向和晶粒尺寸，满足溅射工艺要求。


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