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CUSTOMER CASE
可以根据客户要求提供平面圆靶,方靶,台阶靶、旋转靶均可加工、颗粒、网、箔、粉末、坩埚、异形件定制。鼎伟新材料提供镀膜靶材:铜、铝、铬、钨、钼、镍、铪..
详情>>高纯铬靶的目标杂质控制:如果靶中的夹杂物数量过多,则在溅射过程中可能在晶片上形成颗粒,从而导致互连线短路或断开,这将严重影响膜的性能。高纯铬靶中的大..
详情>>高纯铬靶的目标晶粒尺寸和分布:通常,目标材料具有多晶结构,并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的数量级上。 对于相同组成的靶材,细颗粒靶材的溅射速率比粗颗粒高..
详情>>东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产高纯金属材料,蒸发镀膜材料以及溅射靶材的高新技术企业应用开发的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技..
详情>>ABOUT US
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镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。更换不..
对溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且较终沉积在基..
陶瓷靶材是比较脆的靶材,通常陶瓷靶材都会绑定背板一起使用.背板除了在溅射过程中可支撑陶瓷靶材,还可以在溅射过程中起到热..
镍钒合金靶材的特点及应用镍钒合金靶材主要用于太阳能行业, 电子行业等领域.镍钒靶材的应用及要求的纯度如表 1 所示.1)光存..
高纯度钨靶材是典型性衔接金属钨的一种化工原材料,其因纯净度高(超过99.95%),密度大(19.35g/cm3),蒸汽放低,挥发速..
靶材便是快速荷能粒子负电子的总体目标原材料。靶材类型比较多,有金属类、合金类、金属氧化物类这些,用的领域也各有不同,运..
(一)粉末制备粉末冶金较核心的竞争力就是粉体,能够独立生产高品质稳定的粉体的公司,会在未来占有一席之地。(二)大尺..
氧化铟锡(英文全称为Indium Tin Oxide,简称“ITO”),由氧化铟和氧化锡粉末按照一定比例混合后,经过一系列的生产工艺加工..
贵金属靶材就是采用精练、粉末冶金、压延加工或熔化锻造制造而成的贵金属靶材材料。是主要应用于半导体器件、存储用的硬盘..
贵金属靶材是可以回收再利用的,在加程中打穿的靶材或残料什么都是可以回收再利用的。比如金靶材、银靶材、钯靶材等都可以..
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